沾汙理論的發展過程
環境中的各種有害成分，都主要是以塵粒的形式沉積到物體的表麵，而造成物體的沾汙。塵粒是有害物質的蓄積庫和反應基，它構成了沾汙的基本單元。因此，沾汙理論主要就是揭示塵粒的行為和行為性質的理論。
大氣環境中塵粒的生成、起動、擴散和遷移的機製；室外塵粒向室內侵人的機製；室內塵粒的沉積機製和滯留機製；塵粒在物體表麵的轉化和反應機製；沾汙作用造成的靜態疲勞機製；沾汙作用引起的材料衰變機製等等都是保藏學期待了解的問題。但這樣一個龐雜的理論體係，在實際中找不到現成的架構，它需要我們去請教許多學科，例如二相流體力學，風沙物理學，氣溶膠力學等可為我們提供塵粒的生成、擴散、遷移的機製；膠體化學，環境化學，大氣化學等可為我們提供塵粒的轉化機製；表麵化學，表麵物理等可為我們提供塵粒在固體表麵的滯留機製；化學熱力學和反應動力學等可為我們提供侵蝕反應的機製；環境微生物學，微生物生態學和微生物化學可為我們提供物體表麵的生物反應機製；表麵活性劑化學，紡織品工藝學可為我們提供紡織品的沾汙和去汙機製；潔淨室理論可為我們提供室外塵粒向室內侵人的機製以及室內塵粒的沉積機製等。
實際上創造一個清潔的表麵，保持一個清潔的表麵都是相當困難的。這是因為固體表麵上的原子具有特殊的活性，暴露在大氣中的固體表麵總是要吸附許多雜質分子。即使在的高真空下，原來是清淨的表麵上在1秒鍾後，也將被覆蓋上一層氣體分子；而在的高真空中，表麵上覆蓋一層分子也僅需要100秒以上的時間。因此隻有在超高真空中才能保持固體表麵是純淨的。所以在通常情況下固體表麵總是緊緊地結合著雜質或分子基團，可將這些雜質原子或分子基團看作是固體表麵結構的一部分。
現代的科學實驗和現代的生產活動，都需要高清潔度的環境條件。加工的精密化、產品的微型化和高精度要求髙可靠性要求等，對阻止沾汙手段提出了髙標準要求。如果微小的塵粒進入產品，就可能造成短路，產生障礙，形成雜質源和潛在缺陷等。這一高標準要求促進了潔淨理論和潔淨室技術的發現，而且這項技術在我國已經正式應用於保藏學領域，例如北京的紀念堂就采用了潔淨室技術。
創造和保持清潔表麵的研究工作，在美國等發達國家受到了應有的重視。美國的的部所設的分委員會，就是一個專門負責玻璃表麵清潔問題的研究機構。
隨著沾汙理論在保藏學領域中的普及，不久的將來，許多重要的博物館、圖書館、檔案館庫房必然會引進可有效防止沾汙的潔淨室技術。