倪光楠又認真看了江楓一眼，發現江楓沒在開玩笑，點點頭，慶幸自己找了道友。
倪光楠接著說道：“隻能說希望渺茫，這個投入是個天文數字，而且也隻是解決了芯片產業鏈其中一環而已，不過卻是最重要的一環。”
“現在全球芯片技術卡在了193納米，有人提出進一步優化DUV也就是深紫外光的光刻技術，比如的林本間博士，提出了浸潤式光刻，用水來進一步提高DUV光刻機芯片製造製程，也有人提出要發展EUV技術，也就是極紫外光光刻技術，而且這些人以美國為首成立了EUV LLC聯盟，主要研究極紫外光光刻機，除了英特爾和牽頭的美國能源部以外，還有摩托羅拉、AMD、IBM、最近又將ASML拉入聯盟。EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限，連美國目前都無法獨立完成，需要和國際上一起合作。”
林本間…浸潤式…江楓眼睛一亮，江楓依稀記得後世林本間在芯片行業也是赫赫有名的，邊問道：“他提出的方案，現在有人在落實嗎？”
倪光楠說道：“大家怕水損壞和汙染光刻機，並沒有接受他的方案。”
江楓說道：“倪教授，你覺得我們可否試試？”
倪光楠說道：“如果你不差錢，可以嚐試，光刻機具體的細節我不懂，如果你要嚐試浸入式DUV技術，建議你把林博士給挖過來，因為他的能力還是很強的，沒有可行性，他是不會提出來的。據我所知，他剛從IBM辭職，找他的人很多，我知道他，和我一樣是對科技癡迷的人，他隻要自由度高的研發環境，我覺得找他還是有希望的，至於其他研發團隊，我可以幫你找找人，以你出手的大方程度，我完全能搞定。”
江楓當然求之不得，薪酬隨便開，股權一樣也能給，隻要江楓付得起，把這個事情交給倪光楠後，又討論起EUV路線的可能性。
江楓印象中，距離第一台EUV光刻機交貨，起碼還有十幾年，現在追趕，就算追不上，也能拉近技術距離，於是問道：“那如果我們現在就開始著手研究EUV技術呢？”
倪光楠說道：“如果要追趕國際頂尖水平，我們肯定要著手研究，但是大部分零件技術，在新老光刻機上是通用的，我的建議是，從理論上來說深紫外光技術還有很大的發展潛力，我們如果要打入芯片製造產業，還是要從極紫外光技術開始研究，盡量使用國內已經掌握的技術，再借助目前國外的技術，盡早實現量產，邊生產邊研究，最後達到自主。”
“至於 EUV 技術，說句實在話，如果沒有全球範圍內各個國家和地區齊心協力、共同合作，那麼其失敗的幾率將會大幅度增加。畢竟，想要實現這一技術所需的每一項關鍵技術，都需要投入極其巨大的人力、物力和財力成本。據保守估計，若想取得真正意義上的成功，至少得花費十幾二十年的時間去鑽研與探索才行。而且，在此期間還需源源不斷地往裏砸入巨額資金，但卻很可能看不到任何實質性的收益或回報。我想，即便是一個人擁有無比堅定的決心和信念，麵對如此漫長且前途未卜的道路，恐怕到最後內心也難免會產生動搖吧。”